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【世界熱聞】消息稱 ASML 將向中國推出“特供版”DUV 光刻機


(資料圖)

IT之家 7 月 6 日消息,根據(jù) DigiTimes 報道,ASML 試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令,面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機。

消息稱如果該項目繼續(xù)推進,中芯國際、華虹等中國半導體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設備生產 28 納米及更成熟工藝的芯片。

圖源 ASML

消息稱該特別版 DUV 光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造,而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號,不在本次官方禁令范圍內。

1980Di 是 ASML 現(xiàn)有效率比較低的光刻機,支持 NA 1.35 光學器件、分辨率可以達到 <38 nm,理論上可以支持 7nm 工藝。

大多數(shù)晶圓廠使用 1980Di 光刻機,主要生產 14nm 及以上工藝芯片,很少使用其生產 7nm 芯片。

IT之家在此附上 DigiTimes 報道鏈接(需付費閱讀),感興趣的用戶可以點擊閱讀。

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